TECHNOLOGY AND APPLICATIONS
PVD 是物理气相沉积的缩写，PVD是在真空状态下材料蒸发沉积的技术，真空腔室是必备的条件，以避免蒸发出的材料和空气反应，PVD涂层用来制备新的、具有额外价值和特点的产品，如绚丽的色彩、耐磨损能力和降低摩擦。利用物理气相沉积 (PVD) 工艺，通过冷凝大部分金属材料并与气体结合，如氮，形成涂层。 基体材料是从固态转化为气态，并如在电弧工艺中一样被接受到的热能电离，或者如在溅射工艺中一样由动能电离ALD原子层沉积。
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition），通过物理手段将固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子(等离子体)，在真空空间输运到基体表面并沉积成薄膜的方法，PVD镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空磁控溅射镀膜和真空离子镀膜ALD原子层沉积。
PVD 是物理气相沉积的缩写，PVD是在真空状态下材料蒸发沉积的技术，真空腔室是必备的条件，以避免蒸发出的材料和空气反应，PVD涂层用来制备新的、具有额外价值和特点的产品，如绚丽的色彩、耐磨损能力和降低摩擦。利用物理气相沉积 (PVD) 工艺，通过冷凝大部分金属材料并与气体结合，如氮，形成涂层。 基体材料是从固态转化为气态，并如在电弧工艺中一样被接受到的热能电离，或者如在溅射工艺中一样由动能电离ALD原子层沉积。
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition），通过物理手段将固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子(等离子体)，在真空空间输运到基体表面并沉积成薄膜的方法，PVD镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空磁控溅射镀膜和真空离子镀膜ALD原子层沉积。
PVD 是物理气相沉积的缩写，PVD是在真空状态下材料蒸发沉积的技术，真空腔室是必备的条件，以避免蒸发出的材料和空气反应，PVD涂层用来制备新的、具有额外价值和特点的产品，如绚丽的色彩、耐磨损能力和降低摩擦。利用物理气相沉积 (PVD) 工艺，通过冷凝大部分金属材料并与气体结合，如氮，形成涂层。 基体材料是从固态转化为气态，并如在电弧工艺中一样被接受到的热能电离，或者如在溅射工艺中一样由动能电离ALD原子层沉积。
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition），通过物理手段将固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子(等离子体)，在真空空间输运到基体表面并沉积成薄膜的方法，PVD镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空磁控溅射镀膜和真空离子镀膜ALD原子层沉积。
PVD 是物理气相沉积的缩写，PVD是在真空状态下材料蒸发沉积的技术，真空腔室是必备的条件，以避免蒸发出的材料和空气反应，PVD涂层用来制备新的、具有额外价值和特点的产品，如绚丽的色彩、耐磨损能力和降低摩擦。利用物理气相沉积 (PVD) 工艺，通过冷凝大部分金属材料并与气体结合，如氮，形成涂层。 基体材料是从固态转化为气态，并如在电弧工艺中一样被接受到的热能电离，或者如在溅射工艺中一样由动能电离ALD原子层沉积。
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition），通过物理手段将固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子(等离子体)，在真空空间输运到基体表面并沉积成薄膜的方法，PVD镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空磁控溅射镀膜和真空离子镀膜ALD原子层沉积。
133-8611-6699
上海子创镀膜技术有限公司成立于2009年，系国家高新技术企业，上海市科技小巨人培育企业，上海市专利试点企业，上海金山区技术中心，拥有多项发明和实用新型自主知识产权。
国内首批利用真空物理环保技术从事大型功能性镀膜新材料技术研发暨装备制造为一体的专业系统技术集成商。
地址：上海市金山区亭林镇金飞路808号
总经理：赵子东 13386116699
联系人：骆女士 13391344599
邮箱：zzdaaa@126.com
Loading, please wiat... |
